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鎢坩堝鎢坩堝用于藍(lán)寶石單晶生長、石英玻璃熔煉、真空鍍膜、稀土冶煉等行業(yè)。 純度：W≥99.95%；O＜0.1% 密度：≥18.2g/cm3 表面粗糙度： Ra≤3.2 狀態(tài)：燒結(jié)態(tài) 最高使用溫度環(huán)境： ≤ 2400℃ ...

高純鎢濺射靶材 高純鎢濺射靶材可用于制作半導(dǎo)體芯片層間通孔（Via）和接觸孔（Contact）的填充物，即鎢塞(WPlug)。牌號純度(wt%)密度(%)晶粒度(μm)尺寸(max.mm)粗糙度RaHW4N599.995≥19.1850?450×10≤1.6HW5N99.9...

規(guī)格:直徑（50-400）mm *厚度(3-28)mm純度:99.9％　　　　　　　　　　　　　　　成份說明:Fe30ppm 最大Ni25ppm 最大Cr5ppm 最大Cu5ppm 最大Zr50ppm 最大P30ppm 最大Si30ppm 最大Ta600ppm 最大W50ppm 最大Mo50ppm...

牌號:RO4200-1，RO4210-2規(guī)格:Φ3.0~Φ100mm執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): ASTM B 392 -98成份說明:成份％牌號主要成份其它雜質(zhì)　 最大NbFeSiNiWMoTiTaOCHNNb1剩余0.0040.0040.0020.0050.0050.0020.050.0120.00350.00120.003Nb2剩...